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中国纳米技术专利增长迅猛 仅次美日排名第三

中新网 2002年11月18日

  中新网11月18日电 中国和韩国在纳米技术发明数量方面增长迅猛。按不同国家统计的专利申报数量结果显示,2000年至今,第1位为美国,第2位为日本,中国排名第3。紧随其后德国和韩国。

  据日经BP社的报道,这项结果由以全球专利信息等为研究对象的调查公司――英国的Thomson Derwent调查得出。

  调查显示,中国自1997~1998年时起发明数量逐渐增加,1999~2000年增长速度加快。韩国自1999年起发明数量迅速增加。

  申请发明专利者的情况:中国排名首位的为复旦大学,第2位为清华大学,第3位为吉林大学。韩国方面首位为LG电子、第2位为三星SDI、第3位为ILJIN NANOTECH公司。(记者:樱井敬三)

(http://news.tsinghua.edu.cn)
[更新:2002-11-18]
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