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国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收


  清华新闻网2月2日电 1月29-30日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称02专项)实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目的专项内部验收会。

  项目由清华大学承担,机械工程系朱煜教授担任项目负责人,项目总经费2.23亿元。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标,为我国自主研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位,下设10个课题,清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题,机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心任务。

光刻机双工件台项目内部验收会现场。刘 峰

  验收专家组由相关领域22名技术专家和财务专家组成,02专项咨询专家委员会主任马俊如研究员担任任务验收专家组组长。02专项技术总师叶甜春研究员、清华大学科研院院长周羽教授、机械工程学院院长雒建斌院士及财务处相关负责人出席了验收会。

验收组专家在清华大学IC装备研究室净化间实地考察研发的光刻机工件台样机。刘 峰

  验收会上,专家组认真听取了项目及各课题负责人关于项目及课题完成情况的汇报、用户代表上海微电子装备有限公司对项目样机测试验证的报告和现场测试专家组的测试报告,审阅了验收材料和财务资料。经过充分讨论、质询和评议,专家组一致同意该项目通过内部任务验收和财务验收。

  验收专家组认为,项目研究团队针对光刻机双工件台技术,历经5年完成了任务合同书的全部研究内容,突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运动控制、系统动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术,攻克了光刻机工件台系统设计和集成技术,通过多轮样机的迭代研发,最终研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机,并通过了相关测试,达到了预定的全部技术指标。围绕双工件台技术完成专利申请231项(其中国际发明专利41项),已获得授权122项。培养了一支近200人的专业研发团队,建立了高水平研发平台,为后续产品研发和产业化打下了坚实的基础。 专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个验收的项目。项目将在近期由02专项实施管理办公室组织正式验收。

供稿:机械工程系 编辑:襄桦

 

(http://news.tsinghua.edu.cn)
[更新:2016-02-02 15:52:33]
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